半導體
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  • 全新G-3000系列200mm/300mm全自動清洗刻蝕設備
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    • 設備用途:
    • 用于生產制備環節的產品刻蝕清洗,確保產品的工藝潔凈度滿足工藝指標,全過程為全自動運行;
    • 輔助條件:
    • 超聲、兆聲、循環、冷卻、振蕩、旋片、鼓泡、干燥等
    • 面對行業:
    • 半導體、先進封裝、MEMS等,依據客戶的需求,提供專業的定制設備
    • 設備特點:
    • ★ 軟件和硬件的模塊化設計可以支持在工藝變動時增減更換模塊,減少設備投資風險
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    • ★ 全電腦控制系統可提供無限的存儲空間,實時記錄生產數據,提供多種數據分析功能
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    • ★ 支持EFEM, SMIF自動傳輸,軟件具有GEM/SECSII接口,提供EAP功能
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    • ★ 發明專利的配液系統,實現1%的配液精度,更改濃度配比可直接在軟件里輸入所需的體積
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    • ★ 改進的夾持機構能防止急停時片籃掉落
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    • ★ 德國Beckhoff伺服控制系統增強了抗電磁干擾的能力
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    • ★ 采用以太網控制自動化技術簡化了大量的線纜及傳感器的使用,提升設備的可靠性
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    • ★ 軟件支持同時運行不同的菜單,保證產能最大化
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    • ★ 工藝需要時,傳遞花籃時間(槽內到另一槽內)可以縮短至4秒
    • 可選配置:
    • ▲濃度監測系統 ▲化學品集中供應系統 ▲CO2滅火系統 ▲廢液回收系統
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  • 全自動清洗刻蝕設備(AWS-2600/2800)
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    • 設備用途:
    • 用于生產制備環節的產品刻蝕清洗,確保產品的工藝潔凈度滿足工藝指標,全過程為全自動運行;
    • 輔助條件:
    • 超聲、兆聲、循環、冷卻、振蕩、旋片、鼓泡、干燥等
    • 面對行業:
    • 半導體、先進封裝、MEMS等,依據客戶的需求,提供專業的定制設備
    • 設備特點:
    • ★ 全自動的封閉系統,多重硬件和軟件保護,人性化UI操作界面,靈活的工藝編程,工藝數據及日志記錄
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    • ★ 可用于處理2”、6”、8”、12”以及非規則的定制產品
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    • ★ 先進的機械手設計,自動生產排程,滿足大產能需求
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    • ★ 最快達到工藝溫度
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    • ★ 自動配液、補液
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    • ★ 最經濟的化學品消耗量
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    • ★ 最大化的保障設備運行的可靠及安全性
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    • ★ 具有專利的局部高溫酸排風設計
    • 可選配置:
    • ▲濃度監測系統 ▲化學品集中供應系統 ▲CO2滅火系統 ▲廢液回收系統
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  • 半自動清洗刻蝕設備(SWS-2600/2800)
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    • 設備用途:
    • 適用于2”~8”的晶圓片的濕法化學工藝清洗;可根據不同的清洗工藝來配置相應的清洗功能單元:去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層等;設備廣泛應用于拋光片、擴散前、氧化前及光刻后關鍵工藝的清洗;
    • 輔助條件:
    • 超聲、兆聲、循環、冷卻、振蕩、旋片、鼓泡、干燥等
    • 面對行業:
    • 半導體、LED、光伏等,依據客戶的需求,提供專業的定制設備
    • 設備特點:
    • ★ 保證工藝的精確性及重復性,性價比高
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    • ★ 精確控制工藝溫度
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    • ★ 安全穩定的懸掛式機械臂,自動實現工藝槽及水槽之間花籃的傳送,上下振蕩,振幅及振蕩頻率可調
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    • ★ 獨特的夾具設計:兼容性高;最小化化學品殘留;最大化晶圓與化學品的接觸
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    • ★ 自動配液、補液
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    • ★ 靈活的工藝編程
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    • ★ 工藝數據及日志記錄
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    • ★ 支持條碼管理
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    • ★ 具有專利的局部高溫酸排風設計
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    • ★ 結構緊湊,占地面積小,造型美觀、實用
    • 可選配置:
    • ▲濃度監測系統 ▲化學品集中供應系統 ▲CO2滅火系統 ▲廢液回收系統
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  • 手動清洗刻蝕設備(M-2600/2800)
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    • 設備用途:
    • 手動實現生產制備過程中產品的清洗及刻蝕工藝;適用于2”~8”的晶圓片的濕法化學工藝清洗;可根據不同的清洗工藝來配置相應的清洗功能單元:去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層等;設備廣泛應用于拋光片、擴散前、氧化前及光刻后關鍵工藝的清洗;
    • 輔助條件:
    • 超聲、兆聲、循環、冷卻、旋片、鼓泡、干燥等
    • 面對行業:
    • 半導體、LED、光伏等,依據客戶的需求,提供專業的定制設備
    • 設備特點:
    • ★ 保證工藝的精確性及重復性,性價比高
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    • ★ 精確控制工藝溫度
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    • ★ 靈活的工藝編程
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    • ★ 支持條碼管理
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    • ★ 支持工藝變更與升級
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    • ★ 自動配液、補液
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    • ★ 工藝數據及日志記錄
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    • ★ 多元化的操作方式
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    • ★ 具有專利的局部高溫酸排風設計
    • 可選配置:
    • ▲濃度監測系統 ▲化學品集中供應系統 ▲CO2滅火系統 ▲廢液回收系統
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